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报告题目:
Graphene Nanophotonics and Nanoelectronics
 报告人:
Fengnian Xia
IBM Thomas J. Watson Research Center  Yorktown Heights, 
NY 10598 USA
报告时间:
2010-04-13 15:30
报告地点:
理科楼三楼报告厅
主办单位:
物理系
  简介:

夏丰年1976113日出生于江苏江阴。19987月于北京清华大学电子工程系获得光电子学学士学位,并获得”优秀毕业生”称号(清华大学授予其本科毕业生的最高荣誉)。同年9月,进入美国新泽西州的普林斯顿大学电机工程系学习,师从美国工程院院士Stephen Forrest教授(现美国密西根大学副校长)。他在2001年和2005年获得硕士以及博士学位。其间主要从事基于磷化铟和砷化镓基底的光电集成通信电路的研究。期间的研究成果被工业界接受并采用。

 

他在20053月加入IBM公司在纽约上州的Watson研究总部集成光学部门,进行了为期两年的光互连的博士后工作。现在是总部物理科学部门的永久研究员(Research Staff Member)。目前的研究重点是基于四族元素的集成纳米光子学和电子学,具体的研究对象包括石墨层(Graphene),碳管,硅,和锗。近期又开始了石墨层能带工程和载流子输运等研究工作。

 

他是国际电子和电气工程师学会,美国光学学会,和美国物理学会的成员。他在国际知名杂志例如《自然》,《自然·光子学》,《自然·纳米技术》,《纳米学报》,《应用物理学报》,《光学快报》,和《光学学报》等上共发表过论文约30篇,这些文章被引用超过700次(根据Google Scholar资料)。

 

同时他发表国际会议论文超过50篇,其中包括多篇受邀报告。他也是美国自然科学基金的评审人,同时给绝大部分国际知名,并与光电子学相关的杂志担任过审稿工作,评审过的论文在100篇以上。他已被授予4项美国专利并有7项专利申请待批。

 

1996年他获得清华大学“一二九”奖学金。1998年获得耶鲁大学Bacon奖学金和伯克利大学UC Regents奖学金。20082009年分别由于在 “硅基集成纳米光子学”和“石墨层光子学和电子学”研究中作出的重要贡献,两次被授予“IBM技术成就奖”。他还多次获得“IBM发明成就奖”。

 

 

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