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环境学术沙龙第678期:大气放射性泄漏的源反演技术
集成电路系列学术邀请报告第04期——先进光刻技术介绍
Quantum emitters and random k-local Liouvillians
“城市前沿讲堂”第5期——政策智能理论与方法研究的思路与进展
报告题目:
后硅时代的电子学:从硅到碳
 报告人:
彭练矛
教授  北京大学电子学系
报告时间:
2009-04-09 16:00
报告地点:
郑裕彤讲堂
主办单位:
物理系
  简介:
报告摘要:信息技术的基础是微电子集成电路的发展。微电子始于40年前美国Bell实验室肖特里、巴丁等人关于晶体管的发明。之后微电子特别是硅基CMOS集成电路技术在硅谷等地得到了奇迹般的发展,造就了包括Intel在内的众多顶级高科技公司,为美国近40年的经济繁荣做出了不可磨灭的功绩。然而传统硅基CMOS技术在2020年左右将达到其性能极限,目前即将面临重大选择。特别是高k和纳米材料的发展引发了是否可以放弃硅材料的讨论。虽然目前还没有关于后摩尔时代CMOS技术如何发展的定论,但最新的关于碳纳米管和半导体纳米线的研究表明我们可以利用一维纳米材料特殊的性能,包括非平衡、量子、弹道输运等特点,绕过目前纳电子集成电路所面临的极为困难的技术问题,如器件加工精度,掺杂的数目和稳定性的控制等困难,制备出性能均匀的简单CMOS电路。这些进展为进一步的规模集成基于纳米材料的纳电子电路奠定了基础。本报告将简单地回顾一下基于一维纳米材料特别是碳纳米管的CMOS技术的发展,目前所面临的困难,以及可能的解决途径以及展望。
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