from    
to    
search  

 


集成电路系列学术邀请报告——Chiplet设计与异质集成封装
Global Quantum Communication Network and Future Aspects
面向高比能电池材料的表界面工程
高电压固态电池用聚合物基固态电解质
报告题目:
PLASMA PROCESSING IN THE 21ST CENTURY(1)
 报告人:
David B. Graves美国
R.W. Boswell澳大利亚
报告时间:
2005-07-29 15:00
报告地点:
理学院报告厅
主办单位:
工程物理系
  简介:

题目一:

Challenges in understanding plasma-surface chemistry: Etching through fluorocarbon films

 

报告人:  David B. Graves

工作单位:Department of Chemical Engineering, University of California,Berkeley, USA

报告内容: Possible application of current-free double-layers to space  plasmas

 

 

题目二:

Space Plasma & Plasma Processing, PRL/RSPhysSE

 

报告人:  R.W. Boswell

工作单位:the Australian National University, Australia

 

 

今日相关信息
 
同类别相关信息
中国X射线自由电子激光研究进展
“纷繁多变的世界,英国探索文化关系之道...
Local Analogs of High-redshift Gala...
A new framework for galaxy evolutio...
Preparation and manipulation of col...
学术活动